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Überblick

Das PIOX S misst Konzentration und Dichte mittels auf der Außenseite des Rohres montierten Clamp-On-Ultraschall-Sensoren. Die eingriffsfreie akustische Technik ist das Verfahren der Wahl, wenn Stoffe und Prozesse höchste Ansprüche an Sicherheit und Zuverlässigkeit stellen.

Der Ultraschallsensor PIOX S misst in Echtzeit die Schallgeschwindigkeit von Flüssigkeiten. Bei einer Vielzahl von binären Stoffsystemen steht die Schallgeschwindigkeit in einem festen Verhältnis zur Konzentration und Dichte. Mittels Messung der Schallgeschwindigkeit wird die Dichte und Konzentration des im Rohr befindlichen Mediums bestimmt.

Das PIOX S wird eingesetzt um die Konzentration von Schwefelsäure, Flusssäure, Salpetersäure oder Ammoniak zu bestimmen. Sorgen zur Materialverträglichkeit, Kontamination, Lebensdauer von Dichtungen oder Druckstufe gehören der Vergangenheit an.

Dank der Clamp-On-Technologie lassen sich bestehende Anlagen einfach und ohne Produktionsunterbrechung nachrüsten.

Vorteile

  • Passt an alle Rohre von ½” bis 8”
  • Und auch alle gängigen Materialien – Glas, Edelstahl, Kunststoffe und mehr
  • Für Temperaturen bis zu 400 °C
  • Für Drücke bis 3000 bar
  • Für fast alle Säuren, Laugen und toxischen Flüssigkeiten
  • ATEX, IECEX and FM zugelassen
  • Kein Produktionsunterbrechung während der Installation
  • Wartungsfrei

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Technische Daten

Messgrößen
Schallgeschwindigkeit, Konzentration g/l, Massen- und Volumenprozent, Dichte, weitere Ausgaben programmierbar
Messbereich
1000-2500 m/s (0-100 w%)*
Messgenauigkeit
Instrument wird Feldkalibriert
Reproduzierbarkeit
0,1 w%* (0,5m/s)
Diagnosewert
Signalqualität
Temperatur
-60 °C ... +400 °C**
Flüssigkeitsdruck
3000 bar
Schutzgrad
Ultraschallsensoren: P67, ATEX (IECEx) Zone 0,/1
Transmitter S721: Aluminium- oder Edelstahlgehäuse, IP66, ATEX (IECEx) Zone 2
Medienberührten Teile, Materialien
keine
Gehäusematerial
Edelstahl 1.4301
Prozessanschluss
Klemmung an die Rohraußenwand mit Variofix Befestigungssystem
Reinigungssystem
nicht benötigt
Zusätzliche Informationen
* für wässrige Lösungen am typischen Arbeitspunkt
** eine zusätzlicher Wave Injector wird benötigt